bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Año de publicación: 1994

Volumen: 45

Número: 10-11

Páginas: 1113-1114

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/0042-207X(94)90038-8 GOOGLE SCHOLAR
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