bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2
ISSN: 0042-207X
Argitalpen urtea: 1994
Alea: 45
Zenbakia: 10-11
Orrialdeak: 1113-1114
Mota: Artikulua
ISSN: 0042-207X
Argitalpen urtea: 1994
Alea: 45
Zenbakia: 10-11
Orrialdeak: 1113-1114
Mota: Artikulua