bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Zeitschrift:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Datum der Publikation: 1994

Ausgabe: 45

Nummer: 10-11

Seiten: 1113-1114

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0042-207X(94)90038-8 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus