bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2
ISSN: 0042-207X
Ano de publicación: 1994
Volume: 45
Número: 10-11
Páxinas: 1113-1114
Tipo: Artigo
ISSN: 0042-207X
Ano de publicación: 1994
Volume: 45
Número: 10-11
Páxinas: 1113-1114
Tipo: Artigo