bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Any de publicació: 1994

Volum: 45

Número: 10-11

Pàgines: 1113-1114

Tipus: Article

DOI: 10.1016/0042-207X(94)90038-8 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus