Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials

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Actas:
Physica Scripta T

ISSN: 0281-1847

Año de publicación: 2006

Volumen: T126

Páginas: 89-96

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1088/0031-8949/2006/T126/021 GOOGLE SCHOLAR