Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials

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Actas:
Physica Scripta T

ISSN: 0281-1847

Ano de publicación: 2006

Volume: T126

Páxinas: 89-96

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1088/0031-8949/2006/T126/021 GOOGLE SCHOLAR