Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials

  1. Pichler, P.
  2. Ortiz, C.J.
  3. Colombeau, B.
  4. Cowern, N.E.B.
  5. Lampin, E.
  6. Uppal, S.
  7. Karunaratne, M.S.A.
  8. Bonar, J.M.
  9. Willoughby, A.F.W.
  10. Claverie, A.
  11. Cristiano, F.
  12. Lerch, W.
  13. Paul, S.
Actes:
Physica Scripta T

ISSN: 0281-1847

Any de publicació: 2006

Volum: T126

Pàgines: 89-96

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1088/0031-8949/2006/T126/021 GOOGLE SCHOLAR