Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- De La Rubia, T.Diaz
ISSN: 0272-9172
Année de publication: 1997
Volumen: 439
Pages: 53-58
Type: Communication dans un congrès
Actes de conférence:
Materials Research Society Symposium - Proceedings