Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- De La Rubia, T.Diaz
Actes:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Any de publicació: 1997
Volum: 439
Pàgines: 53-58
Tipus: Aportació congrés