Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- De La Rubia, T.Diaz
ISSN: 0272-9172
Año de publicación: 1997
Volumen: 439
Páginas: 53-58
Tipo: Aportación congreso
Actas:
Materials Research Society Symposium - Proceedings