Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- De La Rubia, T.Diaz
ISSN: 0272-9172
Datum der Publikation: 1997
Ausgabe: 439
Seiten: 53-58
Art: Konferenz-Beitrag
Konferenzberichte:
Materials Research Society Symposium - Proceedings