Modeling of ion implantation and diffusion in Si
- Caturla, M.-J.
- Diaz De La Rubia, T.
- Bedrossian, P.J.
ISSN: 1662-9752, 0255-5476
Ano de publicación: 1997
Volume: 248-249
Páxinas: 41-48
Tipo: Artigo
Colección de libros:
Materials Science Forum