Modeling of ion implantation and diffusion in Si

  1. Caturla, M.-J.
  2. Diaz De La Rubia, T.
  3. Bedrossian, P.J.
Liburu bilduma:
Materials Science Forum

ISSN: 1662-9752 0255-5476

Argitalpen urtea: 1997

Alea: 248-249

Orrialdeak: 41-48

Mota: Artikulua

DOI: 10.4028/WWW.SCIENTIFIC.NET/MSF.248-249.41 GOOGLE SCHOLAR