Modeling of ion implantation and diffusion in Si

  1. Caturla, M.-J.
  2. Diaz De La Rubia, T.
  3. Bedrossian, P.J.
Col·lecció de llibres:
Materials Science Forum

ISSN: 1662-9752 0255-5476

Any de publicació: 1997

Volum: 248-249

Pàgines: 41-48

Tipus: Article

DOI: 10.4028/WWW.SCIENTIFIC.NET/MSF.248-249.41 GOOGLE SCHOLAR