Modeling of ion implantation and diffusion in Si
- Caturla, M.-J.
- Diaz De La Rubia, T.
- Bedrossian, P.J.
ISSN: 1662-9752, 0255-5476
Datum der Publikation: 1997
Ausgabe: 248-249
Seiten: 41-48
Art: Artikel
Büchersammlung:
Materials Science Forum