Atomic scale models of ion implantation and dopant diffusion in silicon

  1. Theiss, S.K.
  2. Caturla, M.J.
  3. Johnson, M.D.
  4. Zhu, J.
  5. Lenosky, T.
  6. Sadigh, B.
  7. De La Diaz Rubia, T.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2000

Volumen: 365

Número: 2

Páginas: 219-230

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0040-6090(00)00757-4 GOOGLE SCHOLAR
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