Atomic scale models of ion implantation and dopant diffusion in silicon

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Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 2000

Ausgabe: 365

Nummer: 2

Seiten: 219-230

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S0040-6090(00)00757-4 GOOGLE SCHOLAR
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