Atomic scale models of ion implantation and dopant diffusion in silicon

  1. Theiss, S.K.
  2. Caturla, M.J.
  3. Johnson, M.D.
  4. Zhu, J.
  5. Lenosky, T.
  6. Sadigh, B.
  7. De La Diaz Rubia, T.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 2000

Volume: 365

Número: 2

Páxinas: 219-230

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/S0040-6090(00)00757-4 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus