Temperature dependence of reactive ion beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Año de publicación: 1992

Volumen: 43

Número: 5-7

Páginas: 591-593

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/0042-207X(92)90083-9 GOOGLE SCHOLAR
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