Temperature dependence of reactive ion beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Zeitschrift:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Datum der Publikation: 1992

Ausgabe: 43

Nummer: 5-7

Seiten: 591-593

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0042-207X(92)90083-9 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus