Temperature dependence of reactive ion beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Any de publicació: 1992

Volum: 43

Número: 5-7

Pàgines: 591-593

Tipus: Article

DOI: 10.1016/0042-207X(92)90083-9 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus