Temperature dependence of reactive ion beam etching of GaAs with CH4/H2
ISSN: 0042-207X
Ano de publicación: 1992
Volume: 43
Número: 5-7
Páxinas: 591-593
Tipo: Artigo
ISSN: 0042-207X
Ano de publicación: 1992
Volume: 43
Número: 5-7
Páxinas: 591-593
Tipo: Artigo