Temperature dependence of reactive ion beam etching of GaAs with CH4/H2

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Aldizkaria:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Argitalpen urtea: 1992

Alea: 43

Zenbakia: 5-7

Orrialdeak: 591-593

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/0042-207X(92)90083-9 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus