Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- Diaz de la Rubia, T.
Actas:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Ano de publicación: 1996
Volume: 438
Páxinas: 715-720
Tipo: Achega congreso