Defect diffusion during annealing of low-energy ion-implanted silicon
- Bedrossian, P.J.
- Caturla, M.-J.
- Diaz de la Rubia, T.
Actes:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Any de publicació: 1996
Volum: 438
Pàgines: 715-720
Tipus: Aportació congrés