Monte Carlo simulation of Boron diffusion during low energy implantation and high temperature annealing

  1. Caturla, M.-J.
  2. Diaz de la Rubia, T.
  3. Zhu, J.
  4. Johnson, M.
Actas:
Materials Research Society Symposium - Proceedings

ISSN: 0272-9172

Ano de publicación: 1997

Volume: 469

Páxinas: 335-340

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1557/PROC-469-335 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable