Monte Carlo simulation of Boron diffusion during low energy implantation and high temperature annealing
- Caturla, M.-J.
- Diaz de la Rubia, T.
- Zhu, J.
- Johnson, M.
ISSN: 0272-9172
Datum der Publikation: 1997
Ausgabe: 469
Seiten: 335-340
Art: Konferenz-Beitrag