Monte Carlo simulation of Boron diffusion during low energy implantation and high temperature annealing

  1. Caturla, M.-J.
  2. Diaz de la Rubia, T.
  3. Zhu, J.
  4. Johnson, M.
Aktak:
Materials Research Society Symposium - Proceedings

ISSN: 0272-9172

Argitalpen urtea: 1997

Alea: 469

Orrialdeak: 335-340

Mota: Biltzar ekarpena

DOI: 10.1557/PROC-469-335 GOOGLE SCHOLAR

Garapen Iraunkorreko Helburuak