Monte Carlo simulation of Boron diffusion during low energy implantation and high temperature annealing
- Caturla, M.-J.
- Diaz de la Rubia, T.
- Zhu, J.
- Johnson, M.
Actes:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Any de publicació: 1997
Volum: 469
Pàgines: 335-340
Tipus: Aportació congrés
