Significance of charge exchange in the determination of yields in broad-beam ion etching

  1. Villalvilla, J.
  2. Santos, C.
  3. Vallés-Abarca, J.
Aldizkaria:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Argitalpen urtea: 1989

Alea: 39

Zenbakia: 7-8

Orrialdeak: 683-685

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/0042-207X(89)90016-X GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus