Effect of the silicon chemical form on the emission intensity in inductively coupled plasma atomic emission spectrometry for xylene matrices

  1. Sánchez, R.
  2. Todolí, J.-L.
  3. Lienemann, C.-P.
  4. Mermet, J.-M.
Revista:
Journal of Analytical Atomic Spectrometry

ISSN: 0267-9477 1364-5544

Año de publicación: 2009

Volumen: 24

Número: 4

Páginas: 391-401

Tipo: Artículo

DOI: 10.1039/B806594M GOOGLE SCHOLAR