Effect of the silicon chemical form on the emission intensity in inductively coupled plasma atomic emission spectrometry for xylene matrices
- Sánchez, R.
- Todolí, J.-L.
- Lienemann, C.-P.
- Mermet, J.-M.
ISSN: 0267-9477, 1364-5544
Año de publicación: 2009
Volumen: 24
Número: 4
Páginas: 391-401
Tipo: Artículo