Increasing the Stability of Isolated and Dense High-Aspect-Ratio Nanopillars Fabricated Using UV-Nanoimprint Lithography

  1. Haslinger, M.J.
  2. Maier, O.S.
  3. Pribyl, M.
  4. Taus, P.
  5. Kopp, S.
  6. Wanzenboeck, H.D.
  7. Hingerl, K.
  8. Muehlberger, M.M.
  9. Guillén, E.
Revista:
Nanomaterials

ISSN: 2079-4991

Any de publicació: 2023

Volum: 13

Número: 9

Tipus: Article

DOI: 10.3390/NANO13091556 GOOGLE SCHOLAR lock_openAccés obert editor
Font de les dades: Scopus