Facet development and its influence on depth resolution during sputtering of Si

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Revista:
Surface and Interface Analysis

ISSN: 1096-9918,  0142-2421

Año de publicación: 1985

Volumen: 7

Número: 1

Páginas: 41-48

Tipo: Artículo

DOI: 10.1002/SIA.740070109 GOOGLE SCHOLAR
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