Atomic scale modeling of boron transient diffusion in silicon

  1. Caturla, M.J.
  2. Lilak, A.
  3. Johnson, M.D.
  4. Giles, M.
  5. Diaz de la Rubia, T.
  6. Law, M.
  7. Foad, Mageed
Actes de conférence:
Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology

ISBN: 078034538X

Année de publication: 1999

Volumen: 2

Pages: 1022-1025

Type: Communication dans un congrès