Atomic scale modeling of boron transient diffusion in silicon
- Caturla, M.J.
- Lilak, A.
- Johnson, M.D.
- Giles, M.
- Diaz de la Rubia, T.
- Law, M.
- Foad, Mageed
Konferenzberichte:
Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology
ISBN: 078034538X
Datum der Publikation: 1999
Ausgabe: 2
Seiten: 1022-1025
Art: Konferenz-Beitrag