Ion range and damage depth parameters for 20-200 keV Pb+ ion implantation in Si

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Revista:
Nuclear Instruments and Methods

ISSN: 0029-554X

Año de publicación: 1981

Volumen: 191

Número: 1-3

Páginas: 124-134

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/0029-554X(81)90994-0 GOOGLE SCHOLAR
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